電鏡用鍍膜儀的主要功能及技術(shù)參數(shù)

點(diǎn)擊次數(shù)：1090 更新時(shí)間：2021-06-25

　　電鏡用鍍膜儀可以提供噴碳和濺射兩種工作模式。此外，系統(tǒng)配有膜厚晶振儀，可以對(duì)膜厚進(jìn)行準(zhǔn)確的控制。設(shè)備采用觸摸屏控制，過(guò)程全自動(dòng)操作。

　　電鏡用鍍膜儀配置為濺射鍍膜機(jī)或碳絲蒸發(fā)鍍膜機(jī)后，可以在全自動(dòng)化系統(tǒng)中獲得*可重復(fù)的結(jié)果，實(shí)現(xiàn)了一臺(tái)EM ACE200具有噴金儀，噴碳儀，蒸鍍儀三種功能。如果您的分析需要這兩種方法，徠卡顯微系統(tǒng)在一臺(tái)儀器中提供可互換機(jī)頭的組合儀表。各個(gè)選項(xiàng)，如石英晶體測(cè)量、行星旋轉(zhuǎn)、輝光放電和可交換屏蔽共同構(gòu)成這臺(tái)低真空鍍膜機(jī)。

　　電鏡用鍍膜儀的技術(shù)參數(shù)：

　　可任選離子濺射模式、碳絲蒸發(fā)鍍碳模式，或者雙模式，可選輝光放電(用于網(wǎng)格表面親水化)

　　設(shè)計(jì)脈沖式碳絲蒸發(fā)方式，可準(zhǔn)確控制碳膜厚度

　　可選石英膜厚檢測(cè)器，準(zhǔn)確控制鍍膜厚度，精度達(dá)0.1nm

　　全自動(dòng)程序控制，自動(dòng)完成抽真空，鍍膜，放氣等過(guò)程

　　觸摸屏控制，簡(jiǎn)單方便

　　真空度7×10-3mbar

　　濺射電流：0-150mA可調(diào)

　　方形樣品倉(cāng)設(shè)計(jì)，樣品倉(cāng)尺寸：140mm(寬)×145mm(深)×150mm(高)

　　工作距離調(diào)節(jié)范圍：30mm-100mm

　　電鏡用鍍膜儀的技術(shù)指標(biāo)：

　　薄膜沉積模式：噴碳，以及濺射(Pt等)